ライオンの制汗剤ブランド「Ban」は2019年、「ワキ汗も足汗も、出るまえブロック」をテーマに、これまでワキ汗対策で培ってきた汗ブロック技術を足に応用した新製品「Ban 汗ブロック足用ジェル」を２月６日より発売した。これに先立ち２月１日、東京・渋谷のクラシカ表参道において「Ban 2019新製品発表会」を開催した。

　はじめに、ヘルスケアマイスターの芳賀理佳氏が足汗トラブルの実態について紹介した。
　芳賀氏は、昨年の猛暑の際の汗にまつわる失敗談や、足汗に関する悩み、他社の足のニオイに対する認識などを明らかにしつつ、「足に関するトラブルには、自覚症状と、他人からがっかりされてしまうという両方向からのものがあるようだ。自覚症状に関しては、足の汗の量、そしてニオイ、ムレが３大トラブルだったが、特に20代女性は、オシャレをするため、様々な自覚症状を抱えていることがわかった。そして、ニオイトラブルに関しては、一般的に男性の足は臭いと言われがちだが、男性だけが臭いわけではなく、実は女性のニオイも気にされていることがわかった。だからこれからは、ワキのケアにプラスして、足のケアもぜひ習慣化していきたい」などと語った。

　続いて、ビューティケア事業部の郭立璐氏が2019年のBan新製品「Ban 汗ブロック足用ジェル」について、足は約７割の人が悩みを抱えるものの、制汗剤による対処は約２割に留まっている現状を伝え、足ケアの習慣化が課題であるなどの認識を示した。

　続いて、ビューティケア研究所の岡愛氏が、新製品「Ban 汗ブロック足用ジェル」について「製品特長のポイントは３つある。まず１つ目は、この（ムレやニオイの）根本原因の足汗を抑えられる圧倒的な制汗力だ。汗ブロック技術を採用しており、足汗の出口にしっかりフタをする。２つ目は、高いニオイ抑制効果だ。殺菌成分イソプロピルメチルフェノールが、ニオイ菌を殺菌し、１日中しっかりニオイを防ぐ。そして３つ目が、忙しい朝でも使いやすい、べたつかない速乾処方だ。このように、効果と使用性を両立した商品設計になっている」と製品特長を紹介し、圧倒的な制汗力を発揮するメカニズムについて「ポイントは、汗ブロック独自の高密着プラグと耐水皮膜ベールだ。このナノイオンブロックで、足汗の出口にしっかりフタをする」などと説明した。